Was ist eine Photomaske

Photomasken sind hochreine Quarz- oder Glasscheiben, welche präzise Abbildungen von integrierten Schaltkreisen oder Halbleiterchips enthalten. Sie werden zur Abbildung der integrierten Schaltungen auf dem Silizium-Scheiben (Wafer) genutzt.

Jeder Schaltkreis besteht aus mehreren Schichten (Layer) für welche jeweils eine eigene Photomaske benötigt wird.
Die besonderen Herausforderungen im Herstellungsprozess sind Lagegenauigkeit, Reinheit und das Produzieren einer fehlerfreien Maske. Dazu nutzen wir hochmoderne Anlagen in einer speziellen Umgebung - Reinraum (Cleanroom).

Prozessfluss

Datenaufbereitung - Maskendaten erstellen; Konvertierung in Tool-spezifische Datenformate (GDSII)
Lithographie - Licht- oder elektronenempfindliche Lacke werden mit einem Laser - oder Elektronenstrahl belichtet
Ätzen - Unbelackte Schichten werden durch einen chemischen Ätzprozess entfernt
CD Metrologie - Vermessung von Strukturbreiten, kritischen Dimensionen (CD), Flankenwinkel und Schichtdicken                 

Registration - Bestimmung der Lagegenauigkeit
Defekt Inspektion - Moderne Anlagen inspizieren die Maske, um Fehler und Defekte zu erkennen

 

Reparatur - Entfernen von Partikeln und Strukturdefekte mit Hilfe verschiedener Methoden: Ionenfeinstrahlverfahren, Lasertechnologien, Elektronenstrahlverfahren oder mechanischer Verfahren
Pellicle Montage - Das Pellicle schützt die Strukturen auf der Maske vor dem Eindringen von Partikeln
                                                                         

Die fertige Maske liefern wir an unsere Kunden und Partner GLOBALFOUNDRIES und TOPPAN.
                                                      

In den Endprodukten - Smartphones / Tablets / Auto / Heimelektronik / ..und vielen anderen Produkten, finden die entstandenen Halbleiterchips ihre Anwendung.